RF-PECVD和VHF-PECVD的區別在哪里

RF-PECVD和VHF-PECVD的區別在哪里

PECVD石墨舟

    氣體在外加射頻場的作用下電離成相應的等離子體，根據射頻施加頻率的不同可分為RF-PECVD和VHF-PECVD，其中RF-PECVD的頻率一般為13.56MHz，VHF-PECVD的頻率一般在30-300MHz之間。
      但是高頻場很容易導致更多非均勻源的出現，產生駐波、奇點等效應。薄膜表面容易脫落或出現條紋，使薄膜的均勻性變差。另外，薄膜在很高頻率下的沉積速率會大大增加，不利于沉積過程中薄膜厚度的精確控制，薄膜厚度的增加也會導致透過率的降低。

      由于射頻與電子和氣體分子的碰撞幾率正相關，在一定范圍內提高射頻會加快反應氣體的分解速率，在短時間內產生大量的反應基團，可以提高薄膜的沉積速率。另一方面，高頻場下腔室內電子濃度的增加，較低的反應溫度和DC自偏壓降，可以降低等離子體的電離度和轟擊效應，有助于生成更多的反應前驅體，從而保證薄膜的高質量生長，薄膜缺陷更少，致密性更好，電導率更高。